在半导体制造过程中，从化学品配制、清洗、刻蚀到 CMP 浆料管理，液体化学品浓度的微小变化都可能对工艺稳定性、产品良率和生产效率产生影响。

　　随着先进制程不断发展，工艺控制对于实时性、准确性和可靠性的要求也在持续提高。如何实现稳定、连续且易于集成的在线浓度监测，已成为众多半导体制造商和设备厂商关注的重要课题。

　　基于超过 40 年的 K-PATENTS® 在线折光测量技术积累，维萨拉正式推出新一代 Polaris™ PR53S 半导体在线折光仪，为半导体湿法化学工艺提供更加精准、可靠的在线浓度测量方案。

　　为半导体湿法工艺而生

　　PR53S 专为半导体液体化学应用设计，可广泛应用于：

　　•化学品混配（Blending）

　　•清洗工艺（Cleaning）

　　•刻蚀工艺（Etching）

　　•化学机械抛光（CMP）

　　•化学品输送与分配系统（Chemical Distribution）

　　通过实时在线监测化学品浓度，帮助用户实现更严格的过程控制，减少化学品浪费，并提升生产效率与一致性。

　　即使面对严苛工况，也能稳定测量

　　半导体湿法工艺环境往往充满挑战。气泡、颗粒、结晶物以及复杂化学介质，都会影响传统测量技术的稳定性。而 PR53S 采用成熟的在线折光测量原理，即使在存在气泡、颗粒或晶体的情况下，依然能够提供可靠且可重复的测量结果。

　　同时，产品内置温度补偿功能，实现无漂移测量，确保长期运行下的数据准确性，为关键工艺控制提供可信依据。

　　更紧凑，更易集成

　　除了测量性能，PR53S 在设备集成方面也进行了优化升级。其紧凑型设计搭配超纯改性 PTFE 流通池，可轻松集成至湿法机台、化学品输送系统及各类工艺设备之中。洁净室适用设计能够满足半导体行业对材料兼容性和洁净度的严格要求。

　　对于设备 OEM 和系统集成商而言，PR53S 能够在不增加系统复杂度的情况下，实现高可靠性的在线浓度监测。

　　少维护，更高运行时间

　　PR53S 采用无活动部件设计，无需耗材，维护需求低。设备既可独立运行，也可与维萨拉 Indigo™ 数据处理平台配合使用，实现更加灵活的数据管理与系统集成。

　　从工艺优化到设备运维，从化学品管理到良率提升，PR53S 为半导体制造企业提供了一种更加可靠、高效的在线浓度测量解决方案。

　　主要优势：

　　•专为半导体湿法化学工艺设计

　　•适用于混配、清洗、刻蚀、CMP 等关键应用

　　•即使存在气泡、颗粒或结晶物仍可稳定测量

　　•集成温度补偿，实现长期无漂移测量

　　•无活动部件、无耗材，维护需求低

　　•紧凑型洁净室设计，易于集成

　　•支持独立运行或接入 Indigo平

　　当工艺控制的要求越来越严苛，可靠的数据将成为提升良率和效率的重要基础。全新 Polaris™ PR53S，以经过验证的在线折光测量技术，为半导体湿法工艺带来更精准、更稳定的浓度监测能力。了解更多产品信息，请访问维萨拉官网：维萨拉 Polaris™ PR53S 半导体在线折光仪 | 维萨拉 (Vaisala)。